第七百二十五章 开研讨会 (第1/2页)

开研讨会

“没想到，新设备第一次光刻测试就成功了，姜教授他们这些人真是牛。”

“那是当然，光刻机研发实验室是咱们维创电子公司和zK院半导体研究所、深镇大学，共同合作建立的，里面工作的研究员，学历最低的也是硕士研究生，能不厉害吗。”

“芯片生产线最核心的设备光刻机研发成功了，其他相关设备的研发难度就低多了，也许咱们维创电子公司有一天，可以生产整条芯片生产线上的所有设备。”

“没那么容易，整条芯片生产线上的设备太多了，咱们维创电子不可能分心生产这么多的东西。”

“第一次光刻测试，产品合格率就达到了68.7%，再做一些参数优化，将合格率提升到70%、80%，也不是不可能。

接下来，刘焱和姜安平等人去食堂吃了一餐迟来的午饭，然后返回无尘车间，对光刻机进行进一步的测试，包括极限加工精度测试，最高光刻速度测试，长时间压力测试等等。

此后半个月，又有两台维创电子自产的一微米光刻机加入测试，随着设备参数的不断修改优化，一些零配件的小修小改，生产的芯片合格率已经提升到了81%。作为一家刚刚成立不到半年的晶圆工厂，这个合格率已经相当高了。

11月中旬，维创电子公司和zK院、深镇大学，合作研发的一微米光刻机正式定型量产。

为此，三家单位特意举行了一个表彰大会，还叫来了几名报刊杂志和电视台的记者，对此进行报道。在这次的表彰大会上，对光刻机研发小组全体成员进行了通报嘉奖，所有人都获得了维创电子公司提供的一万到十万不等的奖金。

在改开之初的八三年，RmB非常的坚挺，万元户在深镇也是凤毛麟角的存在。如今一大批搞光刻机研发的技术人员，轻轻松松成为万元户，甚至十万元户，造成的轰动效果可想而知。

消息见报不到一周，维创电子公司就接到了五台一微米光刻机订单，都是国内的几大电子研究所订购的，用于国产芯片的研发制造。

刘焱当初投资研发光刻机，本来就没想过依靠它盈利，量产型号的光刻机，对外售价只有2百万RmB。这个价格只有国外同类产品的三分之一左右，可谓是物美价廉。

可惜这年月，国内的晶圆工厂大多不成气候，后续订单就算有，也不会有太多。好在维创电子公司自己就有晶圆工厂，且盈利丰厚，只要自产光刻机能完美替代进口产品，且能跟随摩尔定律不断升级进化，花再多的研发资金也是值得。

表彰大会之后，刘焱召集全体光刻机研发室实验室成员，召开了一个研讨会，对下一步的研发计划和研发方向进行了部署。

刘焱代表维创电子公司率先发言，说道：

“一微米光刻机已经研发成功，并定型量产，在座的诸位功不可没。但这一切都已经是过去式，接下来，咱们要在一微米光刻机的基础上，再接再厉，研发0.5微米制程的光刻机。我代表维创电子公司表个态，不管研发过程中遭遇怎样的困难，需要投入几亿，十几亿，甚至几十亿的研发资金，我们维创电子也在所不惜。接下来，有请姜教授就下一代光刻机研发计划，做一下总体规划。”

姜安平拿出一份手写的稿子，清了清嗓子说道：

“当初刘老板提供的光刻机研发资料中，有一份0.5微米光刻机研发概要，点明了几个研发要点，包括光源，透镜系统，双工台，掩模台等等。

其中双工台、掩膜台、控制系统、晶圆传输系统，可以通过一微米光刻机的相关部件进行升级改造达成，难度不是太大。

但为了达到0.5微米的加工精度，光源系统和透镜系统需要重新设计，重新打造，这个难度不是一般的大。”

乌光辉跟着发言道：

“我是搞激光技术出身，在光刻机光源方面有一定研究。光刻分辨率想要达到0.5微米，光源波长需要达到365nm以下，且对光源强度和均匀度都有非常严格的要求。咱们在一微米光刻机上使用的高压汞灯，理论上其极限能达0.35微米的加工精度，但需要对其结构进行彻底的改造，且越是接近极限，越难以达成。

而被业界普遍认定是下一代光刻机光源的KrF（氟化氪）准分子激光，光源波长为248nm，可以使最小工艺节点提升至350-180nm水平。当今世界上，很多激光相关的研究所，都在对准分子激光进行研发，进度参差不齐，达到实用水平的，一个都没有。

我的建议是，在光刻机光源方面，两种线路同时研发，哪个率先取得突破，下一代0.5微米光刻机上，就使用哪一种光源。”

一位光学方面的专家发言道：

“光源波长越短，传播过程中越容易被透镜吸收。下一代0.5微米光刻机，如果依旧使用高压汞灯当光源，使用现在的透镜组合就足够了，顶多加工精度再提高一些。如果使用准分子激光做光源，透镜系统就需要推倒重做，组合里